微弧氧化
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微弧氧化的基本原理及膜层特性

发布日期:2019-08-26 作者: 点击:

微弧氧化技术是一种直接在轻金属表面原位生长陶瓷膜的新技术。其原理是将Al、Mg、Ti等轻金属或其合金置于电解质水溶液中作为阳极,利用电化学方法在该材料的表面产生火花放电斑点,在热化学、等离子体化学和电化学的共同作用下,获得金属氧化物陶瓷层的一种表面改性技术

微弧氧化的放电状态:   

微弧氧化技术特点:

 1)氧化膜具有陶瓷结构特征。 

(2)原位生长。

(3)氧化膜均匀增厚。

(4)无污染:无环保限制元素加入,基本无废水排放。

           制备工艺简单。

(5)表面硬度高,显微硬度在400至1500HV; 

(6)耐磨损性能与硬质合金相当;

(7)耐腐蚀性能:盐雾试验铝合金1000-2000小时 ;镁

         合金经封孔后耐盐雾可达1000小时以上。

(8)耐热性能:300℃水中淬火35次未见变化,1300℃

          冲击5次不脱落、不龟裂。 

(9)绝缘性能:膜厚不同,表面电阻达  109-12Ω

微弧氧化膜层形貌  截面:微弧氧化陶瓷层与基体以冶金型微熔过渡区连接。

 其组织致密无穿孔,且与基体成明显的微冶金型结合 。此类组织特征大大增强了陶瓷层对基体的防腐蚀保护能力。

表面: 盲孔微区分布 均匀,利于减摩条件下连续油膜的形成,

改善润滑条件,降低摩擦系数,延长使用寿命。对用于制取防腐保护涂层的产品,此类表面状态利于进行封孔或喷粉等后续处理,增强其附着力。  


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